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低碳锰铁铁*上一般标准为含锰75～80%，中*为适应锰矿品位低的原料条件，规定了含锰较低的牌号（电炉锰铁含锰65%以上，高炉锰铁含锰50%以上）。冶炼碳素锰铁过去主要用高炉，随着电力工业的发展，用电炉的逐渐增多。西欧和中*用高炉为主，挪威、日本都用电炉，苏联、澳大利亚、巴西等*新建锰铁工厂也采用电炉。

原子层沉积法(ALD)是基于连续的气相前驱体沉积的化学过程，能够*控制单层沉积薄膜厚度。正由于此特性，ALD常用于制备超薄共型膜，从上世纪90年代以来得到了快速发展，被广泛应用于电池、水解离、生物医药、半导体、催化剂制备等方面。 ALD对前驱体的纯度要求很高，沉积所需时间也较长，成本很高。仪器设备成本高昂，、生产成本增加，很难实现大规模的工业化，常用于实验室研究。 

溅射法是一种通过溅射进行沉积的物理气相沉积法。溅射出的原子具有较窄的能量分布，被溅射出的物质通常是离子化产物。由于其具有高能量，通常在真空室中直线撞击基底。但在较高压气体环境中，溅射出的离子会与气体分子发生撞击，从而改变其运动方向，*后撞击在基底上的离子能量较低。 法通常使用Au、Pd、Ag作为靶阴*，制备包覆性催化剂，适用于大面积的均匀涂覆。